半导体氧化物酸洗废气处理标准的解决方案

未知, 2019-07-20 15:57, 次浏览

  指导阅读酸氧化氮废气管道之后,半导体材料进入废气处理系统,天然气管道,进入主喷淋填料塔处理,它的主要功能是使用高频酸碱性溶液,硝酸气体吸收和NO2气体的一部分,包括钠还原效果,提高脱氮效率,废气,然后处理二、喷雾填料塔,废气通过风扇后,排气筒排放标准。这个过程不仅处理效率高,可以有效地去除污染物,和运行成本很低。

  半导体(半导体),指的是室温电导率之间的导体(导体和***缘体(***缘体)之间的材料。半导体在、电视和温度测量已广泛应用。如二极管是半导体器件做的。半导体是指一种导电性可以控制,范围从导体和***缘体之间的材料。无论从科技的角度来看,经济发展,半导体的重要性常***的。今天,***多数的电子产品,如电脑、手机或数码录音机的核心单位和半导体有极其密切的关系。常见的半导体材料如硅、锗、砷化镓、硅是各种半导体材料,***影响力的商业应用程序之一。

  半导体材料生产过程中污染气体的主要组件:一氧化二氮(一氧化二氮)和一氧化氮(NO)和二氧化氮(NO2),三氧化二氮(N2O3),四氧化二氮(N2O4和5一氧化二氮(N2O5),高频,等等。

  一氧化氮(NO)是一种无色气体,量30.01,163.6℃,熔点,沸点151.5℃,101.3 lkPa蒸汽压(151.7℃)。溶于乙醇、二硫化碳,微溶于水和硫酸,4.7%的水溶性(20℃)。性质不稳定,易氧化成空气中二氧化氮(no2 2 + O2 - > 2)。一氧化氮是结合血红蛋白的能力强于一氧化碳,更有可能造成身体缺氧。然而,人们还发现一个******的生物学作用。一氧化氮作为神经信息,使血管舒张,免疫力,增强记忆及其重要的作用。

  二氧化氮(NO2)时的温度为21.1℃红棕色的刺鼻气体;21.1℃下深褐色液体。——ll℃温度下,无色固体,加压液体四氧化二氮。量46.01,熔点11.2℃,沸点21.2℃,101.3 lkPa蒸汽压(2 l℃),溶于碱性、二硫化碳、氯仿,微溶于水。自然是稳定的。二氧化氮溶于水时生成硝酸和一氧化氮。对硝酸工业利用这一原则。二氧化氮能使多种织物褪色,损坏各种面料和尼龙产品,也有腐蚀金属和非金属材料。

  氟化氢是氟元素和氢元素组成的二元化合物,它是一种无色有刺激性气味的气体,是一种弱酸。氢氟酸水溶液的氟化氢。氟化氢和它的水溶液是有毒的,容易使骨骼,牙齿,畸形,氢氟酸可以通过皮肤粘膜、呼吸道和胃肠道吸收。

  氮氧化物能刺激肺部,使人更加困难呼吸道疾病抵抗感冒、呼吸道问题,如哮喘病人将更容易受到二氧化氮。为儿童,氮氧化物可能会导致肺损伤发展。研究表明,长期吸入一氧化氮可能导致肺的结构变化,但仍不确定的影响氮氧化物和抽气的内容。

  氮氧化物为主与一氧化氮和二氧化氮的一个主要原因是光化学烟雾和酸雨的形成。紫外线照射的氮氧化物和碳氢化合物汽车尾气形成有毒气体反应,称为光化学烟雾。光化学烟雾有一种***殊的味道,刺激眼睛,植物,可以降低***气能见度。此外,氧化氮和硝酸盐和亚硝酸盐的水在空中是酸雨的成分。***气氮氧化物主要来源于燃烧,燃烧化石燃料和植物,农田土壤和动物粪便中含氮化合物的。

  氮氧化物废气的治理方法***致可分为燃烧控制技术、炉吸着剂喷射和烟气脱硝技术,根据脱硝装置等,可分为生产过程控制和处理后处理。工业废气中氮氧化物去除过程常用的后处理技术,可分为两类,干法和湿法。干法包括催化还原法和催化分解法、吸附法等湿法包括碱吸收和减少吸收和氧化、吸络合吸收,等。相比之下,干法和湿法工艺设备简单,运行成本低,吸收剂品种,适应性强,等。从成本考虑吸收液体,可以使用碱吸收,其产生的副产品NaNO2和NaNO3可以回收。

  由Na2CO3吸收效果不如氮氧化物氢氧化钠,原因是Na2CO3的浓度降至1.5 - 5%,吸收效果急剧下降,氢氧化钠没有这种效果,另Na2CO3吸收的二氧化碳将会减少氮氧化物溶解性的解决方案。所以是***用氢氧化钠碱液。

  包括氢氧化钠浓度控制塔在4% - 4%(主要为了消除硝酸、氢氟酸)废气,钠的浓度控制在2%左右,二级控制在2%氢氧化钠浓度、钠的浓度控制在2%左右,塔控制在2%氢氧化钠浓度、钠的浓度控制在2%左右。

  废气管道收集后进入废气处理系统,天然气管道,进入主喷淋填料塔处理,它的主要功能是使用高频酸碱性溶液,硝酸气体吸收和NO2气体的一部分,包括钠还原效果,提高脱氮效率,废气,然后处理二、喷雾填料塔,后废气风机,排气筒排放标准。这个过程不仅处理效率高,可以有效地去除污染物,和运行成本很低。